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    程俊玲的采用薄膜激光工艺直接硅基片上制作电路元、器件及其接线，并加以封装而成。

    薄膜激光包括蒸、溅射、化学气相淀积等。

    他的特点是所制作的元件参数范围宽、精度高、温度频率特性好，可以工作到毫米波段。并且集成度较高、尺寸较小。

    但是所用工艺设备比较昂贵、生产成本较高。

    薄膜混合集成电路适用于各种电路，特别是要求精度高、稳定性能好的模拟电路。

    与其他集成电路相比，它更适合于微型电路。

    薄膜作为交叉导体的绝缘和薄膜电路的保护层，各种薄膜的作用不同，所以对它们的要求和使用的材料也不相同。

    对导电薄膜的要求除了经济性能外，主要是导电率大。

    刘林看到详细解释，程俊玲不是跟传统的一样，以硅片为主材料。

    因为材料的限制，所以必须采用多层结构，常用的是四层结构，铬-铜-铬-金

    对介质薄膜要求介电常数大、介电强度高、损耗角正切值小。

    程俊玲用了氧化硅、氧化钽和它们的双层复合结构：-sio和-sio2。

    刘林把所有东西理顺之后，嘴角不由的抽了抽！

    打开相应的软件，慢慢修改了起来。

    硅材料局限性太大，并不适合，hdag刚好可以派上用场。只要把磁性控制在o以内那就绝对没问题。

    两小时后，刘林终放下手中的鼠标。

    又检查了一次之后，确认没问题，便把包给程俊玲。

    就在刘林把资料出不到五分钟，电话跟着追了过来。

    “喂，书呆子，你资料上所说的o的磁材料，存在吗？”电话一接通，程俊玲也不等刘林反应，急吼吼地道。

    “就不能小声点，一惊一炸的！”刘林把手机举得远远的，刚才差点给程俊玲吼成了聋子，最后鄙视道：“我敢在资料上注明，自然有这样的材料。”

    “我怎么没听过有这样的材料。”程俊玲急道：“有这样的材料，我可以把性能再提升二倍一以上。”

    “差不多就行了，目前来说已经够用了，再提升也没什么意义。”刘林太阳穴不由的的跳了两下，急忙劝道。

    这程俊玲有时候就是人来疯，想到啥就来啥。

    一点都不考虑后果的。

    半小时之后，刘林把程俊玲劝住，挂掉电话，叹了口气，继续自己未完成的大业。

    磁计算中心的制造。

    虽然汇换出来的是全套制造技术，但是还是有不少地方需要调整的。

    cpu要等小米的芯片部门收购完成后，才能动，内存条可以直接在实验室制造，不过这中间要用到导材料。

    这个导材料，让刘苛去趟冶炼工厂吧，刚好他们现在都在北京那边。

    刘林把整理好的资料，一份给刘苛，之后又打了个电话过去，等交代好，时间已经是下午六点多。

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